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光刻机板块:国产替代挑振需要

作者:admin  时间:2020-03-24 13:45  人气:184 ℃

原标题:光刻机板块:国产替代挑振需要

光刻机技术壁垒高且投资占比大,现在国产化率主要不能。随着吾国电子工业的赓续巨大,光刻机这一高端技术壁垒亟待突破。但是光刻机技术含量极高想要在短时间内取得强大的技术突破是不现实的。芯片尺寸的缩短以及性能的升迁倚赖于光刻技术的发展。光刻设备从光源(最初的g-Line, iHLine发展到极紫表EUV)、曝光手段(从接触式到步进式,从干式投影到浸没式投影)赓续进走着改进。现在光刻机主要能够分为主流IC前道制造光刻机、IC后道先辈封装光刻机、LED/MEMS/Power Devices制造用光刻机以及面板光刻机。

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ASML公司市占率挨近80%

IC前道光刻机市场需要空间相等汜博,光刻机采购节奏逆映2020年半导体设备资本支付迅速添长。光刻机约占晶圆制造设备成本的27%,,光刻工艺占芯片制造时间的40%至50%。产线扩产拉动光刻机市场周围将赓续增补。现在荷兰的ASML公司是世界上最大的光刻机生产商,市场份额超过80%,在KrF/ArF/EUV光刻机周围出货量份额超过90%。

光刻机采购额进一步升迁

上海某家光刻机生产商是国内光刻机领军者,其集成电路前道光刻机能够实现90纳米制程,异日有看逐步实现技术突破。光刻机采购节奏是内资生产线资本支付的关键信号。内资产线清淡会优先采购价值量和技术难度最高的光刻机。内资产线在2019年第四季度至今光刻机相符计采购量赓续增补,预示2020年内资生产线资本支付将进一步升迁。

光刻机价格赓续攀升

随着芯片制程的赓续升级,集成电路前道光刻机价格赓续攀升。现在最先辈的EUV设备在2018年单台平均售价高达1.04 亿欧元,较2017年单台平均售价添长4%。另一方面,晶圆尺寸变大和制程缩短将使产线所需的设备数目添大,性能请求变高。12寸晶圆生产线中所需的光刻机数目相较于8寸晶圆生产线将进一步上升。同时展望2020年随着半导体产线得到赓续扩产,光刻机需要也将进一步添大。

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